真空懸浮熔煉爐

VSF-L真空懸浮熔煉爐

產品描述：

真空懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中，利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化，依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產生密切接觸。這樣就避免了坩堝對需要熔煉材料的污染，從而能夠熔煉出高純度的金屬材料。通過精練后在水冷銅坩堝內的液態合金也可以通過旋轉澆注入錠模中，可以得到組織致密的合金錠。真空懸浮熔煉爐適用于鈦合金、稀土材料、高熵合金、黃金等金屬的熔煉，高純度靶材的生產和一些精密鑄造。主要應用于生產高純金屬材料、半導體單晶材料、高熔點合金和3D打印等行業。

爐體結構：

VSF-L真空懸浮熔煉爐是一款臥式、側部開門結構、能夠在腔體內實現真空澆鑄的高真空懸浮熔煉設備。該爐安裝有二次加料器，可以實現二次加料，有多處觀察孔，可以清晰的觀察水冷銅坩堝內物料熔化的情況，并可選配紅外測溫儀測量熔化金屬的溫度，該爐具有過溫、斷水保護、報警、輸出電流顯示等功能。能夠在爐外旋轉電極從而讓爐內坩堝做任意角度翻轉、而實現真空下澆鑄。

技術參數：

1.最高加熱溫度：2200℃

2.采用電源：IGBT懸浮專用電源

3.感應線圈：懸浮爐專用線圈

4.輸入電壓：三相380V 50 HZ

5.融化速率：10~15min

6.坩堝：懸浮專用水冷銅坩堝

7.腔體真空度：< 5X10^-3Pa

8.冷卻水要求：電源≥0.2MPa 水冷銅坩堝 ≥0.35MPa

技術指標：